エルマルコのNS LABは、ナノファイバー膜の研究および実験作業を効率的に行うことのできるラボ用エレクトロスピニング装置です。
NS LABは工業用ナノスパイダー製造ラインと同じ固定型ワイヤー電極システムを使用しているため、NS LABでの実験で得られた成果をスムーズに上位機種（NS 1S500U, NS 4S1000U or NS 8S1600U）に移行でき、生産量のスケールアップを図ることができます。
推奨使用例
- 大学、研究機関や企業の研究用
- エアフィルター、液体フィルター、メディカルや様々な領域における膜の研究開発
- 新素材やプロセスパラメータの材料科学分野における基礎研究
フレキシビリティ
エルマルコのエレクトロスピニング装置NS LABは、有機から生分解性まで幅広いポリマーを用いてナノファイバーを作製することができます。また、用いるポリマーに依存しますが、繊維径は80 nmから700 nmまで制御することが可能です。（+/- 30％）
さらに、NS LABは様々なタイプの基材を用いることができます。
仕様
| スピニング電極数: | 1 |
| スピニング電極幅: | 350 mm |
| 基材送り速度: | 0 – 5000 mm/min |
| スピニング電圧: | 0 – 80 kV |
NS LABのご紹介
NS LAB 新バージョンの特長
１）側面に窓が付きました
旧バージョンのNS LABでは正面と背面からしかエレクトロスピニング(電界紡糸)の様子を目視することはできませんでしたが、新バージョンでは左右にも窓が付いたことにより、全方向からエレクトロスピニング(電界紡糸)の様子を確認することができるため、プロセス中の細かなファイバーの変化にも気づきやすくなります。
2) 新たに高性能カメラが標準で装備されています。
新規開発の高性能カメラを取り付けることにより、ワイヤー電極でのナノファイバージェット形成観察、溶液成膜分析など、Nanospider™テクノロジーに関連するプロセスパラメーターの動画分析が可能となります。
*解像度：1 px = 12 µm以上、露光時間50 µs以上、最大500 fps（またはフルHDで180 fps）のフレームレート
分析できるパラメーター：
- ナノファイバーの形成
- テイラーコーンの密度とその形状
- 個々のジェット間の距離
- ワイヤー電極への溶液膜の堆積の厚さと頻度
■お問合せ■
KAZELFA (カゼルファ) 株式会社
Tel: 042-372-8860 Email: info@kazelfacorp.com
